中国确实是需要彻底抛弃幻想了,西方世界已经开始无所不用其极全方位围堵了. J: O* d8 U* L% \- U3 i R
6 L$ K4 n& f) {6 K# Z" d, Q2 k+ i
根据本月开始实施的新规定,日本大学须对外国留学生和访问学者进行背景调查,将那些与外国政府或国防相关机构有联系的人员标记出来。+ `. I, C V6 V1 ]6 Z, f
- q5 Y. R* O U# n
日本政府这一要求是为了防止技术外泄到中国等国家。这一举措既是为了保障自身的国家安全,同时也是出于对日本与欧美大学之间交流项目的保护。9 A$ C. G2 s* Y5 w8 j3 g
t. Z2 D. K' h, u, M据报道,很多西方国家都已经采取了各项措施,其中包括严格的筛选和对违规行为进行严格处罚等;但是相比之下,日本高校经常是不受检查地欢迎外国留学生,这一直是一个安全薄弱环节。
/ l. c3 L+ ~4 f% ?
! d2 R4 \8 S* A2 p, e: c: q/ ~一名要求保持匿名的官员表示:“我们希望日本的大学能够在安全和贸易监控方面得到信任,从而保障与美国和欧洲之间的联合科研项目可以继续顺利进行下去”。
7 i, z+ W4 R& q7 |5 f
4 z0 j5 I# [' w: {据报道,在当前供应链受损、知识产权盗窃和数字攻击等现象日益频发的背景下,经济安全已经成为全球政策制定者最优先关注的因素,也是外交合作的一个重要领域。+ c5 @& b$ _8 q4 W( K5 b( }" l+ j
, }& c2 c2 C! S- C; }日本官员并未指出是否有一个具体事件促使该国采取这一行动,而是强调日本在这方面需要改进,以维系其高校和美国等西方伙伴之间的合作关系。
# U/ w/ ]: `0 O7 w; Y+ ^5 v, R) |! x: C3 S% g$ r
据报道,加强对学术界的监管也是日本扩大出口管控政策的一部分,这与本月通过的一项新的经济安全法案相辅相成。
4 ^. p+ w: c% V* p$ c7 X6 S; [- `2 l3 r# Y" K+ I
报道中还举例说明,截止目前,如果一名受到中国政府资助的学者想要到日本攻读有关最尖端雷达技术专业的博士课程,并在学成之后回国,将研究成果用于军事目的,几乎不会面临什么障碍。
5 y& l% m. |( q6 i- T2 t" D$ {4 ~2 m0 O# P* J
但是同样的情况在美国就会被视为高风险个案,从而被拒绝留学申请。
" ?/ [- I0 z% H) s% g$ G9 i; k1 C. U i# A
据报道,由于日本社会老龄化严重,适龄读大学减少,许多日本大学都急需填补名额,而外国留学生则成为重要资金来源。
2 r) H; N' Y4 J* [ L' E _4 ]5 o a7 D! h9 c0 c
根据日本政府的统计数据,2020年日本在读的外国留学生有279597人,其中44%来自中国,而在2019年,美国是日本研究人员的首选目的地。
3 u0 S; i/ M5 Y
7 m- b( `6 D- s0 u% Y# O" j% o对于新的监管体系是否有效,仍然存在质疑。一些学者表示,我们不适合做抓间谍的人。- r% H* h' n$ z4 @0 v
7 _& m+ ~) J" j( A% R. O日本Tohoku University的物理学教授Takahiko Sasaki表示,他所在的大学要求教职员工做出书面承诺。% A* {" h0 T1 S
; L2 H" @' x- ^( N6 O7 g
' d0 o8 Z# m( h# i8 P8 g" G+ V# _ Sasaki说:“所有教职员工需要承诺,不会在未经许可的情况下向与外国政府机构有联系的学生或者其它学术人员传授敏感技术。”8 k8 v9 ~; V4 \( D( X) ^
( v" H+ Z X' B$ F" v
“但我们又不是情报机构。检查简历和学术档案才是我们作为大学应该做的工作。”
# {7 H- }4 A0 q" q$ F! I+ U3 k
2 l! y% w7 F+ c8 H) h$ D& e对此,日本政府官员Masahiko Hosokawa表示:“日本大学需要资金,所以不断招揽外国学生,但是一些院校缺少危机意识。”
3 m" _8 {' l8 K0 X! N; M3 J6 B" i& f* |4 F" Q D( D `' ]
“他们应该寻找不依靠中国生源也能维持运转的途径。”
0 [% B, x0 Q z7 ?6 Q& |5 g0 d# ^2 V( k& Q
参考来源:https://financialpost.com/pmn/bu ... o-screen-foreigners
4 }! ]( R! r5 d& I3 P- U: Z& c- u) y
6 g2 y: H c; F* ]4 M. e& V |